机译:直流磁控溅射和大功率脉冲磁控溅射制备的薄膜的比较研究
机译:直流,大功率脉冲和爆裂磁控溅射制备铜膜的比较研究
机译:反应性大功率脉冲和射频磁控溅射制备Co_3O_4纳米薄膜的电,光和催化性能的比较研究
机译:高功率脉冲磁控溅射制备的TISI / C,TISIN / C和TISIO / C多层薄膜性能研究
机译:脉冲反应直流磁控溅射技术制备的高介电常数薄膜的沉积和表征。
机译:磁控溅射制备CrNx / Ag多层膜的微观结构和力学性能
机译:直流磁控溅射与大功率脉冲磁控溅射制备CrNx薄膜的比较研究